金剛石（Diamand），常稱鉆石，其性能優異，應用廣泛。

人造金剛石技術包括高溫高壓（HTHP）法和化學氣相沉積（Chemical Vapor Deposition 簡稱CVD）法。

     CVD金剛石沉積方法包括：熱絲 CVD 法（Hot Filament CVD，簡稱HFCVD）、

                微波等離子體 CVD 法（MWPCVD）、

                        直流等離子體噴射 CVD 法（DCPJCVD） 等。

     MWPCVD法設備復雜，成本高，尺寸受限，

但其膜層質量優異，一般為透明色，

主要應用于光學、電子、人造鉆石等高端領域。        

     HFCVD法由于設備較簡單、成本較低廉、可進行大規模工業化生產，

其膜層質量一般，呈黑色，主要應用其硬度及耐磨性。

          久鉆科技具有HFCVD和MWPCVD兩種制備設備，并熟練掌握其制備技術。

采用熱絲CVD（即HFCVD）設備制備金剛石涂層產品，

其方法是采用金屬絲作為熱源，通入活性氣體，

在真空條件下當熱絲溫度達到2000℃左右時，

含氫氣體在高溫下發生熱分解，

在工件基底上先沉積生長一層微米晶金剛石，增強膜層和基底結合力，

然后繼續沉積生長一層納米晶金剛石，改善圖層表面結構，降低表面粗糙度。